其被涂覆在光致抗蝕劑掩模重疊基板，用于烘焙的圖案，其包括范圍和X-Y-θ臺機構的曝光裝置，以允許自動對準在多次曝光，基板的供給也對準曝光 - 在汽車尾氣排放進行。

• 憑借其獨特的平行拉伸機制，高精度地設置了掩模和晶圓之間的接近間隙。

• 通過**的高速圖像處理技術進行高精度的對位。

• 通過圖像處理技術，預對準也適用于薄基板，變形基板，石英和其他易碎晶圓。（可選）

• 憑借我們獨特的接觸壓力**控制機制，我們可以高精度地與掩膜接觸。

• 通過晶圓的背面真空吸附方式，實現了高速，高精度的穩(wěn)定自動輸送。

 

 

		MA-4000
晶圓尺寸		?2至4“	?4至6“
面膜大小		□5“	□7“
光源		超高壓汞燈：500瓦或1千瓦
外部尺寸和重量	身體尺寸	W 1340 x D 1430 x H 1900 mm
	體重	1120公斤
選項		生產管理系統(tǒng)（D-Net），背面對齊，○□雙板